In-Line PECVD system for HIT junctions 用于制备高效异质结太阳电池的直线型等离子体化学气相沉积系统In-Line PECVD system for HIT junctions 用于制备高效异质结太阳电池的直线型等离子体化学气相沉积系统 | |
Silicon Nitride Coating Systems for Multi-crystalline Silicon Solar CellsSilicon Nitride Coating Systems for Multi-crystalline Silicon Solar Cells | |
Deposition SystemsDeposition Systems | |
MProbe Vis 微点薄膜厚度光学测量仪大部分半透明的或具有轻微吸收性的薄膜能够被快速、可靠的测量:氧化物、氮化物、感光耐蚀膜、聚合物、半导体(Si, aSi,polySi)、硬涂层(SiC, DLC), 聚合物涂料 (Paralene,PMMA,聚酰胺),薄金属薄膜等。 | |
脉冲激光沉积系统 (PLD)脉冲激光沉积系统 (PLD) | |
原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition)原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition)是一种原子尺度的薄膜制备技术。它可以沉积均匀一致,厚度可控、成分可调的超薄薄膜。随着纳米技术和半导体微电子技术的发展,器件和材料的尺寸要求不断地降低,同时器件结构中的宽深比不断增加,这样就要求所使用材料的厚度降低至十几纳米到几个纳米数量级。因此原子层沉积技术逐渐成为了相关制造领域不可替代的技术。其优势决定了它具有巨大的发展潜力和更加广阔的应用空间。 | |
单腔室和多腔室薄膜沉积设备MVSystems 公司设计,制造和提供各类单腔室和多腔室薄膜沉积设备。另外,根据用户的需求,各种PECVD,HWCVD,和PVD腔室可以单个制造,也可配备到现有的团簇型(星型)或是直线型沉积系统。MVSystems具有制造用于各类研发,中试以及小型生产设备的强大能力和丰富经验,所生产的设备已成功地使用在全世界23个国家的大学,研究院所和公司。我们公司的工程部门可最大限度地为用户着想, 以使用户们获取他们最需要的且价格合适的设备。 | |
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD)脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD) | |