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Filmetrics光学膜厚测量仪_电池片厚度测试  
Filmetrics光学膜厚测量仪_电池片厚度测试
美国Filmetrics光学膜厚测量仪,利用反射干涉的原理进行无损测量,可测量薄膜厚度及光学常数。测量精度达到埃级的分辩率,测量迅速,操作简单,界面友好,是目前市场上最具性价比的膜厚测量仪设备。设备光谱测量范围从近红外到紫外线,波长范围从200nm到1700nm可选。凡是光滑的,透明或半透明的和所有半导体膜层都可以测量。F20、F30、F40、F50
光学膜厚仪  
光学膜厚仪
美国光学膜厚仪,广泛应用于各种薄膜、涂层光学常数(n and k)和厚度的精确测量,设备分为在线和离线两种工作模式,操作便捷,几秒钟内即可完成测量和数据分析,USB 连接计算机控制; 薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉,干涉的发生与膜厚及折光系数等有关,因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、精确且快速的光学薄膜厚度测量技术,我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。